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公司簡介
聯盛半導體科技(無錫)有限公司成立于2023年5月，是山東聯盛電子設備有限公司的全資子公司，工廠地址位于江蘇省無錫市錫山科創園，公司致力于半導體高端濕制程設備研發、生產與銷售。
山東聯盛電子設備有限公司目前已申請國家專利30多項，其中發明專利9項，并獲得國家高新技術企業，省級專精特新企業榮譽稱號，公司于2016年申請并通過ISO9001質量體系認證，半導體專業認證。并于2020年、2022年分別和山東大學微電子學院，青島大學電子信息工程學院建立產學研合作，同時總經理馬玉水被青島大學聘為創新創業導師。
我們產品服務的領域包括硅材料、化合物半導體材料、陶瓷、玻璃等，主要設備有:全自動RCA清洗機、全自動鍍鎳鍍金清洗機、全自動最終清洗機、全自動腐蝕減薄清洗機、全自動去邊清洗機、全自動溝槽蝕刻機、全自動二氧化硅蝕刻機、爐管清洗機、CVD前清洗機、CDS(SDS)系統、BClean、Oxide Remove、Nitride Remove、PR Strip、Lift Off、Particle Remove、Solvent Clean、Metal Etch、M2 Clean.
產品展示
全自動腐蝕機
1、晶圓浸泡式腐蝕清洗，特制轉籠晶圓自動旋轉和提拉。3、氮氣鼓泡功能，運行中氮氣管路可在酸槽內平行均勻移動，鼓泡速率可調節。9、加工能力:晶片直徑4英寸至12英寸，每次數量75片/6英寸，50片/8英寸/12英寸。10、清洗機通過硬件、軟件配置來較大限度的保護硅片，在異常狀況下設備出現Down機。11、專利號:202311724028，2020208029174，202020802916X，2020208029051，2020208029051。單片清洗機
1、用于硅、碳化硅、氮化鎵等半導體材料的單片腐蝕、清洗、刷洗工藝。2、機臺可實現多尺寸兼容(4&6英寸;6&8英寸;12英寸)。3、工藝腔體經過優化設計，高性能FFU,配合可調節高度的CUP,形成一個穩定強度的downflow，嚴格控制wafer 表面工藝區域的動態環境。4、可以實現藥液(酸/堿/有機)的排廢分離，無藥液的交叉污染。5、可適用襯底及外延清洗、PR strip、Oxide removal等工藝。6、支持 GEM/SECS協議，支持MES 系統聯機。全自動磨片后清洗機
1、機臺采用進口板材，可長期工作在酸腐蝕環境，堅固耐用，雙層防漏。2、采用KOH、混酸、SC1對芯片表面有機和無機物的有效處理工藝設備，可清洗6"、8"硅片。3、可設計手動、全自動運行，全自動運行方式采用多只機械手作業，更有效提高效率降低成本。5、各工藝槽模組化設計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統一的承漏底盤中，腐蝕槽設計底部排風，降低排風量。6、控制部分采用進口品牌PLC和HMI，可帶MES系統。7、設備設計標準按半導體行業標準執行，ISO9001質量管理體系進行規范和保證。
生產環境
聯系方式
無錫工廠：江蘇省無錫市錫山區芙蓉中三路90號青云三座1樓咨詢電話：13671788984 / 13869598805 / 18663593909
